Rasterkraftmikroskop

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Labor 08
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Mechanisch
Oberflächen
Meßtechnik - Geräte
Zerstörungsfrei
Ortsfest
Nur geschultes Personal

Mittels Rasterkraftmikroskop kann ein dreidimensionales, digitales Bild einer Probenoberfläche erstellt werden. Eine auf einem Ausleger befestigte Nadel (Cantilever) tastet die Probenoberfläche ab und durch die Messung der Auslenkung mit Hilfe eines Laserstrahls und einer segmentierten Photodiode wird ein dreidimensionales Bild der Oberfläche erzeugt. Die Auflösung kann im Idealfall einige Å betragen, liegt also in der Größenordnung großer Atome. Diese Methode eignet sich auch für elektrisch nicht leitende Substanzen und für Untersuchungen in Flüssigkeiten.

Einsatzgebiet

-    Dreidimensionale Darstellungen von Oberflächen
-    Rauhigkeitsanalysen
-    Quantitative Bestimmung der Oberflächenstruktur

AFM-Scan einer TiB2 Schicht

 

 

Spezifikationen

-    Zerstörungsfreie Messung weicher Oberflächen
-    Profilanalysen
-    In situ – Beobachtung von Vorgängen wie Kristallisation und Schichtwachstum
-    On site – Messungen auf großflächigen Proben

Weiteres Equipment

-    Messkopf für Messungen in Flüssigkeiten

Spezifikationen

  • „Contact“-Messmodus, hier werden die abstoßenden van der Waals-Kräfte gemessen
  • „Non Contact“-Messmodus, hier werden die anziehenden van der Waals-Kräfte gemessen
  • max. Messbereich 100x100µm
  • max. Höhenunterschied 10µm
  • Das Gerät besitzt einen Messkopf, mit dem eine flüssigkeitsfilm-bedeckte Probe untersucht werden kann und in situ - Beobachtung von Schichtwachstum ist möglich.
  • Das Messgerät kann direkt auf großflächige Proben aufgesetzt werden


Probenanforderungen

  • fest
  • nach Möglichkeit flach
  • großflächige Proben möglich
  • maximale Erhöhung im Messausschnitt 10µm
  • afm 1786x697.jpg
  • AFM_1.jpg
Technologiefeld